Polski
|
| Przepływ natrysku: | |
|---|---|
| Szerokość natryskiwania: | |
| Wysokość natrysku: | |
| Rozpylone cząstki: | |
| Częstotliwość: | |
| Odpowiedni dla cieczy Lepkość: | |
| Zmiana kierunku Ciśnienie powietrza: | |
| Ilość: | |
RPS-S40
RPS-SONIC
Ultradźwiękowa dysza natryskowa 40K do atomizacji mikronowej w przemyśle energetycznym
Opis
Ultradźwiękowa dysza do natryskiwania 40 kHz to precyzyjny system atomizacji przeznaczony do dyspersji cieczy na poziomie mikronów i powlekania funkcjonalnego w branżach związanych z energią. Wykorzystuje wibracje ultradźwiękowe o wysokiej częstotliwości do przekształcania płynnych zawiesin w drobne, jednolite kropelki, umożliwiając wysoce kontrolowane osadzanie na skomplikowanych powierzchniach.
W przeciwieństwie do konwencjonalnych systemów rozpylania powietrzem lub natryskiwania pod wysokim ciśnieniem, ta dysza ultradźwiękowa wytwarza miękki strumień o niskiej prędkości i wąskim rozkładzie wielkości kropel, zapewniając lepszą jednorodność powłoki, większe wykorzystanie materiału i znacznie zmniejszone nadmierne natryskiwanie. Szczególnie nadaje się do materiałów energetycznych, które wymagają precyzyjnej kontroli warstw i stabilnych parametrów elektrochemicznych.
Podstawowa zasada technologii : Podstawą ultradźwiękowego natryskiwania atomizującego jest unikalna metoda atomizacji. System przekształca energię elektryczną o wysokiej częstotliwości w energię mechaniczną za pomocą przetwornika piezoelektrycznego, generując wibracje podłużne o wysokiej częstotliwości. Ta energia wibracyjna tworzy fale stojące w warstwie cieczy na powierzchni dyszy, „rozbijając” ciecz na kropelki wielkości mikrona o wysoce skoncentrowanym rozkładzie wielkości. W przeciwieństwie do metod natryskiwania, które opierają się na szybkim przepływie powietrza lub wysokim ciśnieniu, proces ten jest bardzo delikatny. Powstałe kropelki są następnie kierowane na docelowe podłoże za pomocą niskociśnieniowego gazu nośnego, uzyskując w ten sposób precyzyjną, kontrolowaną i powtarzalną powłokę.
System jest wyposażony w ultradźwiękową dyszę atomizującą o częstotliwości 40 kHz , zapewniającą stabilne tworzenie kropel pod wpływem kawitacji i stałą wydajność rozpylania w skali mikronowej.
Kluczową zaletą jest zdolność do przetwarzania zawiesin o dużej zawartości części stałych i materiałów energetycznych , takich jak powłoki elektrod akumulatorowych i funkcjonalne tusze przewodzące, bez zatykania i niestabilności ciśnienia.
W porównaniu z tradycyjnymi metodami natryskiwania, technologia ta zapewnia bardziej jednolitą grubość warstwy i lepszy rozkład cząstek , co ma kluczowe znaczenie dla wydajności elektrochemicznej w urządzeniach energetycznych.
Bezkontaktowy, niskociśnieniowy proces atomizacji minimalizuje odbicie materiału i zapewnia wysoką wydajność osadzania przy zmniejszonych stratach drogich materiałów aktywnych.
System obsługuje regulowane natężenie przepływu i moc ultradźwiękową, umożliwiając precyzyjną kontrolę gęstości powłoki, szerokości natrysku i konsystencji warstwy.
Jego modułowa konstrukcja umożliwia integrację ze zautomatyzowanymi liniami produkcyjnymi akumulatorów, ogniw paliwowych i systemów produkcyjnych fotowoltaicznych.
Parametry
|
Nr modelu
|
RPS-AT40
|
|
Przepływ natrysku
|
<40ml/min
|
|
Szerokość natryskiwania
|
10 ~ 50 mm
|
|
Nadaje się do cieczy o lepkości
|
<100 cps
|
|
Rozmiar cząstek zawiesiny
|
10 ~ 40μm
|
|
Zmiana ciśnienia powietrza
|
<0,05 MPa
|
|
Komunikacja
|
RS485
|
|
Materiał dyszy
|
Stop tytanu
|
|
Napięcie wejściowe
|
220 V/50 Hz
|
|
Zdolność produkcyjna
|
200/miesiąc
|
Atomizacja ultradźwiękowa wytwarza jednolite kropelki w skali mikronowej , poprawiając konsystencję powłoki i stabilność warstwy funkcjonalnej.
Znacząco zwiększa efektywność wykorzystania materiału, redukując straty kosztownych materiałów energetycznych, takich jak zawiesiny katodowe i anodowe.
W porównaniu z konwencjonalnymi systemami natryskiwania powietrznego zapewnia lepszą jednorodność powłoki, niższy współczynnik defektów i lepszą wydajność elektrochemiczną.
Ultradźwiękowa konstrukcja zapobiegająca zatykaniu zapewnia stabilną, długoterminową pracę nawet w przypadku cieczy o dużej lepkości lub bogatych w cząstki.
Obsługuje ciągłe przetwarzanie przemysłowe, dzięki czemu nadaje się do skalowalnych linii produkcyjnych energii.
Jednolita powłoka: jednorodność > 95%
Oszczędność surowców: stopień wykorzystania surowca wynosi ponad 85%, 4 razy więcej niż w przypadku tradycyjnej dyszy natryskowej
Wysoka dokładność kontroli grubości powłoki: można precyzyjnie natryskiwać powłoki od 20 nm do kilkudziesięciu mikronów.
Nie zatykająca się
Dysza antykorozyjna
Wysoka precyzja i możliwość kontrolowania strumienia.
Technologia natryskiwania ultradźwiękowego odgrywa coraz większą rolę w przemyśle elektronicznym ze względu na jej podstawowe zalety, takie jak wysoka precyzja, wysoka jednorodność i wysokie wykorzystanie materiału. Zapewnia nowatorskie rozwiązanie wielu wyzwań, z którymi borykają się tradycyjne procesy natryskiwania, poprzez rozpylanie cieczy w jednolite kropelki wielkości mikrona, a następnie precyzyjne osadzanie ich na docelowej powierzchni. Technologia ta jest szeroko stosowana w produkcji wielu komponentów elektronicznych, od mikroskopijnych chipów półprzewodnikowych po makroskopowe płytki drukowane.
Dysza do natryskiwania ultradźwiękowego 40 kHz jest szeroko stosowana w:
Powłoka elektrody akumulatora litowo-jonowego (szlam anodowy i katodowy)
Natryskiwanie warstwy katalizatora ogniwa paliwowego
Osadzanie cienkowarstwowe w fotowoltaice słonecznej
Powłoka z materiału magazynującego energię
Atrament przewodzący i powłoka funkcjonalna
Produkcja elektrod superkondensatorowych
Zaawansowane badania i rozwój w zakresie materiałów energetycznych
Precyzyjne przemysłowe systemy powłokowe
