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RPS-AT120
Rps-sonic
RPS-UA120
Machine de revêtement ultrasonique de buse de pulvérisation de haute précision 120khz pour des nanoparticules métalliques
Description
La machine de revêtement par buse de pulvérisation ultrasonique de haute précision 120 kHz est un système de nano-atomisation avancé conçu pour le revêtement ultra-fin et hautement uniforme de suspensions de nanoparticules métalliques. Fonctionnant à une fréquence ultra-haute de 120 kHz, le système génère des gouttelettes extrêmement fines à l'échelle nanométrique, permettant un dépôt précis de matériaux fonctionnels avec une uniformité et un contrôle de surface exceptionnels.
Contrairement aux systèmes conventionnels de pulvérisation aérienne ou à ultrasons basse fréquence, cette technologie produit une distribution de taille de gouttelettes beaucoup plus étroite et réduit considérablement la pulvérisation excessive, ce qui la rend idéale pour les applications de nanoparticules métalliques de grande valeur où la précision du revêtement et l'efficacité des matériaux sont essentielles.
Il est largement utilisé dans l’électronique avancée, les matériaux énergétiques, le dépôt de couches minces et les revêtements fonctionnels de précision.
Le système est équipé d'une buse d'atomisation ultrasonique à ultra haute fréquence de 120 kHz , permettant une génération ultra-stable de nano-gouttelettes avec un contrôle extrêmement fin de la taille des particules.
Un avantage clé est sa capacité à réaliser une véritable atomisation au niveau nanométrique , ce qui le rend particulièrement adapté aux suspensions de nanoparticules métalliques telles que l'argent, le cuivre, l'or et les encres conductrices utilisées dans les applications électroniques haut de gamme.
Par rapport aux systèmes traditionnels de 20 à 60 kHz, la conception à 120 kHz offre une taille de gouttelettes plus petite, une plus grande uniformité de revêtement et une douceur de film considérablement améliorée , réduisant ainsi les défauts de formation de couches minces.
Le processus de pulvérisation à basse pression et sans contact élimine les problèmes de colmatage des buses courants dans les fluides nanoparticulaires à haute teneur en solides, garantissant ainsi un fonctionnement stable à long terme.
Le système prend en charge un contrôle précis du débit, de la largeur de pulvérisation et de la production d'énergie ultrasonique, permettant un ajustement précis pour les exigences de revêtement ultra-fin et de haute précision.
Sa structure modulaire permet une intégration facile dans les lignes de production automatisées, les plateformes de recherche en laboratoire et les systèmes de fabrication à l'échelle pilote.
Paramètre:
| Article | Paramètre |
| Fréquence | 120 kHz |
| Pouvoir | 10 ~ 100 W |
| DÉBIT (ml/min) | 0 ~ 3 ml/min |
| Largeur de pulvérisation | 5~10mm |
| Utilisation des solutions | au dessus de 98% |
La nano-atomisation ultrasonique produit une distribution de gouttelettes extrêmement fines et uniformes , permettant une qualité de revêtement supérieure et des performances électriques améliorées dans les films fonctionnels.
Le système haute fréquence de 120 kHz assure un contrôle ultra-précis des dépôts , réduisant ainsi le gaspillage de matériaux et améliorant l'efficacité d'utilisation des nanoparticules métalliques coûteuses.
Par rapport aux méthodes de pulvérisation conventionnelles, il permet une formation de film plus douce, une conductivité plus constante et moins de défauts de revêtement..
Le processus sans contact protège les substrats sensibles et évite les dommages à la surface lors du dépôt.
Il offre une excellente répétabilité, ce qui le rend idéal pour les applications industrielles haut de gamme nécessitant un contrôle strict des processus.
-Revêtement uniforme : uniformité >95 %
-Économie de matières premières : le taux d'utilisation des matières premières est supérieur à 85 %, soit 4 fois celui d'une buse de pulvérisation d'air traditionnelle-Pulvérisation de haute précision et hautement contrôlable.
Application
Revêtement conducteur de nanoparticules métalliques (encres argent, cuivre, or)
Electronique flexible et électronique imprimée
Revêtement de surface semi-conducteur
Dépôt de cellules solaires et de couches minces photovoltaïques
Revêtement de couche de catalyseur de pile à combustible
Films optiques et fonctionnels de précision
Recherche avancée sur les nanomatériaux
Production de revêtements industriels haut de gamme
Revêtement PEM
