Tehnologia de pulverizare cu ultrasunete în acoperirea filmului

Tehnologia de pulverizare cu ultrasunete în acoperirea filmului

Prezenta invenţie se referă la o metodă de preparare a peliculelor subţiri prin pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete. Utilizează un dispozitiv simplu de atomizare cu ultrasunete pentru a atomiza lichidul de pulverizare în picături ultrafine, care sunt apoi depuse mai uniform pe suprafața substratului cu ajutorul unui flux de aer auxiliar. Această metodă realizează o acoperire cu grosime uniformă, controlabilă și aspect de înaltă calitate. Această metodă abordează problemele de uniformitate slabă a suprafeței de acoperire, calitate slabă a acoperirii, volum de pulverizare necontrolat și productivitate scăzută întâlnite în tehnologiile de pulverizare existente, atingând obiectivul pulverizării precise. În comparație cu tehnologiile existente, prezenta invenție oferă avantaje cum ar fi eficiența ridicată de pulverizare, calitatea înaltă a acoperirii, reproductibilitatea excelentă a produsului, utilizarea ridicată a soluției și controlul precis al zonei de pulverizare și al grosimii acoperirii.

Domeniul Tehnic

Prezenta invenție se referă la domeniul tehnologiei de pulverizare, în special la tehnologia de procesare a pulverizării prin nano-film subțire, și în mod specific la o nouă metodă de preparare a peliculelor subțiri prin pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete.

Fundal art

Pulverizarea prin pulverizare cu ultrasunete este o metodă de preparare a filmului subțire utilizată pentru a pulveriza pelicule subțiri pe suprafețele substratului. Procesul include în general trei etape: atomizare cu ultrasunete, pulverizare și post-procesare. Atomizarea cu ultrasunete utilizează efectul de cavitație al ultrasunetelor pentru a determina nucleele de cavitație (bule) mici dintr-o soluție să oscileze, să crească și să migreze către suprafața soluției sub influența energiei ultrasonice. Când ajung la suprafață, ele explodează, formând picături minuscule (ceață). Atomizarea cu ultrasunete produce picături fine, distribuție uniformă și atomizare excelentă, făcându-l ușor de controlat și evitând risipa inutilă în producție. Procesele existente de acoperire prin pulverizare utilizează în principal aer comprimat pentru a stoarce lichidul de acoperire printr-un pistol de pulverizare și pentru a-l pulveriza pe suprafața substratului. Cu toate acestea, acest proces are dezavantaje inevitabile, cum ar fi uniformitatea insuficientă a pulverizării, grosimea necontrolată a stratului de acoperire, calitatea slabă a filmului, revenirea semnificativă a soluției și risipa semnificativă.

CN102019264A dezvăluie o metodă de pulverizare cu atomizare ultrafină. Folosind duze cu ultrasunete sau cu două fluide, două sau mai multe duze efectuează o mișcare de scanare bidimensională de-a lungul axei XY. Lichidul chimic atomizat este aplicat pe întreaga napolitană. Napolitana este apoi rotită pentru o a doua pulverizare, iar procesul de pulverizare rotativă este repetat până când se atinge grosimea țintă. CN103143472A dezvăluie o duză de atomizare cu ultrasunete pentru flux de lipit, constând din cinci părți. În prima parte, o cameră de depozitare a ceață și un canal de ghidare a ceață sunt separate printr-un perete lateral. O ieșire de ceață este prevăzută pe un perete lateral al camerei de stocare a ceață și o deschidere superioară a canalului de ghidare a ceață este prevăzută pe celălalt perete lateral al camerei de stocare a ceață. A doua parte este situată sub prima parte și include o cavitate distanțier cu o deschidere inferioară a canalului de ghidare a ceață. Pe peretele lateral este instalată o admisie a fluxului, prin care se injectează fluxul. A treia parte este situată sub partea a doua. A patra parte este situată sub cea de-a treia parte, cu un traductor cu ultrasunete situat în partea de jos a acestei părți și o intrare de aer inferioară la celălalt capăt. A cincea parte este ansamblul duzei. O sursă de aer externă intră prin orificiul de admisie a aerului duzei și este apoi evacuată de duză. Presiunea negativă generată ejectează simultan prin duză fluxul atomizat stocat în camera de stocare a ceață.

Deși au fost dezvoltate o serie de procese de pulverizare cu pulverizare cu ultrasunete și echipamente pentru pulverizarea cu pulverizare cu ultrasunete, aceste procese sau echipamente au limitări în domeniul și aplicarea lor. Unele echipamente de pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete nu pot controla uniform cantitatea de ceață emisă la duză, ceea ce face dificilă controlul precis al grosimii stratului de acoperire pulverizat. Unele procese de pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete sunt potrivite doar pentru pulverizarea filmelor pe substraturi mai mici. Cu toate acestea, prezenta invenție poate fi utilizată pentru pulverizarea substraturilor mai mari, cum ar fi pereții cortină din sticlă, precum și pentru acoperirea substraturilor mai mici sau chiar extrem de mici. De asemenea, controlează cu precizie grosimea stratului de acoperire și amplitudinea de pulverizare (în special, prin ajustarea parametrilor duzei cu două straturi) menținând în același timp calitatea aspectului dorit.

Prezenta invenție își propune să abordeze deficiențele tehnologiei existente prin furnizarea unei metode de formare a filmului prin pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete care poate fi aplicată mai bine în producția industrială, producția agricolă și cercetarea științifică, unde este necesară o prelucrare fină. Poate pulveriza lichidul de acoperire pe suprafața substratului cu precizie maximă. Prezenta invenție folosește următoarele soluții tehnice:

O metodă de formare a filmului de pulverizare prin pulverizare cu ultrasunete folosește un atomizor cu ultrasunete pentru a atomiza cu ultrasunete un lichid de pulverizare în picături ultrafine. Metoda utilizează apoi un sistem de duze de atomizare cu ultrasunete, ghidat de un flux de aer auxiliar extern, pentru a pulveriza filmul pe suprafața substratului.

Sistemul de duză de atomizare cu ultrasunete cuprinde o duză cu strat dublu care cuprinde o țeavă de admisie a fluxului de aer auxiliar ca tub exterior, o țeavă de admisie a vaporilor de lichid atomizat ca tub interior și o duză de atomizare la capăt. Duza de atomizare cuprinde o duză de pulverizare cu două straturi care conectează conducta de admisie a fluxului de aer auxiliar și conducta de admisie a vaporilor de lichid atomizat.

Metoda de formare a filmului de pulverizare cu ultrasunete folosește un sistem de duze de atomizare cu ultrasunete proiectat independent. Undele ultrasonice sunt folosite pentru a sparge lichidul de pulverizare utilizat în mod obișnuit în pistoalele de pulverizare cu aer în picături ultrafine, care sunt apoi transportate de un flux de aer auxiliar extern și pulverizate pe suprafața substratului, formând o peliculă subțire mai uniformă. Fluxul de aer auxiliar extern servește la modelarea modelului de pulverizare. Prezenta invenție controlează dimensiunea particulelor picăturilor și volumul de atomizare prin controlul frecvenței și puterii undei ultrasonice. Debitul de pulverizare este controlat prin controlul debitului de vapori de lichid atomizat în tubul interior. Controlul fluxului de aer auxiliar extern asigură un flux uniform al vaporilor de lichid atomizat în duza de atomizare cu ultrasunete. Prezenta invenție utilizează o structură cu dublu strat pentru a crea un flux uniform de ceață la duză care este pulverizată pe suprafața substratului, formând o acoperire cu grosime uniformă, controlabilă și aspect de înaltă calitate.

Videoclipuri cu echipamente de pulverizare cu ultrasunete RPS-SONIC: